日本岛津AIN氮化铝基板真空烧结炉VHSgr40/40/150适用于氮化铝材料从脱气到大气压烧结的连续处理。新能源汽车、半导体、5G通讯、LED等设备上的散热基板及其他结构件的烧结处理。。
用途:AIN氮化铝基板、AIN结构件
日本岛津AIN氮化铝基板真空烧结炉VHSgr40/40/150技术规格
有效尺寸(mm):400*400*1500
处理量(KG):400
Zui高温度(℃):2000
真空度(Pa):7x10~
Zui高压力:大气压
加热电力(kw):230
使用气体:N2,Ar
脱气、脱脂、烧结一体化处理
炉内装有密封箱,使脱脂挥发的气体不污染炉内壁和隔热材,全部排出到炉外。
方形密封箱
由于是方形密封箱,使紧密性提高,可以对应大量的成型剂。
方形密封箱(内胆)使空间更加紧凑,减少气体及加热电力消耗,降低运行成本。